中国が深紫外線露光装置の国産量産を開始と報道 ASML株は8.5%急落

中国が国産の液浸型深紫外線(DUV)露光装置の製造を開始したと、アメリカのニュースメディアThe Informationが報じ、Reutersが27日(アメリカ時間)に伝えた。露光装置はオランダのASMLが長年独占してきた半導体製造の中核装置で、報道を受けてASMLの株価は一時8.5%下落し、6月以来の大幅安となった。

報道によると、装置は上海の企業が製造する28ナノメートル対応の液浸型で、年内にSMIC、Hua Hong Semiconductor、CXMTなど中国の主要半導体メーカーへ納入される見通し。生産台数は2026年に約5台、2027年に約20台と限定的で、性能や信頼性ではASML製に及ばず、量産適用には追加の検証が必要とされる。部品の大半は中国製だが、一部の重要部品は日本から調達しているという。

それでも、輸出規制で最先端の極端紫外線(EUV)装置を入手できない中国にとって、液浸型DUVの国産化は半導体自給に向けた戦略的な一歩となる。装置分野への波及は大きく、露光装置関連や半導体製造装置株が世界的に売られる展開となった。